超纯铝靶基材
可出产纯度为99.9%至99.9999%的高纯铝产品，建有大型高纯铝智能化出产基地，占有齐全自主知识产权、具备较强竞争力的高纯铝设备及有关提纯工艺技术。
产品优势
纯度高
占有三层法、偏析法、晶析法、区域熔炼法四种提纯工艺，铝纯度可达到99.99995%（6N5）
低缺点
高纯铝靶材棒材坯料选取水浸超声探伤检测内部≥0.5mm缺点为0。
细晶化
靶材坯料晶铸造加工变形后均匀晶粒尺寸<100μm，有利于溅射镀膜的不变性及厚度一致性
利用场景
利用于半导体芯片
利用于液晶显示
新公网安备 65010402000200号